个人简历

2004年到现在，中科院半导体所集成技术工程研究中心。

2002年－2004年，瑞典Chalmers大学，微技术与纳米科学中心(MC2)光子学实验室，博士后；主要进行了长波长In(Ga)As量子点及GaInNAs量子阱材料与激光器件研究。

2001年－2002年，日本神户大学，Venture Business实验室，研究机关研究员身份；研究方向为分子束外延生长III-V族异质结构的研究。

1998年－2001年，中科院半导体研究所，超晶格国家重点实验室，博士；研究方向为长波长In(Ga)As/GaAs量子点的分子束外延生长。

研究领域

• 太阳能电池陷光结构

• 纳米热电结构与器件

• 量子点场效应晶体管

• 半导体微纳米加工技术

研究（技术）亮点

目前主要研究领域涉及高效太阳能电池，纳米热电结构与器件，半导体量子点光电器件，半导体微纳加工技术等。在太阳能电池方面，研究了III-V电池的制备工艺及其优化技术，所研制电池具备较高的光电转换效率；并且进行了纳米陷光结构研究，其结果被同行多次引用。在光学膜应用方面，成功改善多种光电器件的性能，如明显提升大功率LED的出光效率等。在半导体量子点器件研究方面，成功研制出量子点场效应管光电探测器件，发现器件的负微分电阻等现象并提出了新的物理模型。同时，还负责了大量对外工艺服务项目，涉及国内外多家研究机构，大学，及公司企业等，内容包含了微电子、光电子等众多领域，积累了丰富的技术经验。近年来主持多项国家自然科学基金、重点研发计划等项目；发表和合作发表论文100余篇；培养指导多名博士、硕士生。

成果出版

[1] Rui Xu, Xiaodong Wang*, Liang Song, Wen Liu, An Ji, Fuhua Yang, and Jinmin Li, Influence of the light trapping induced by surface plasmons and antireflection film in crystalline silicon solar cells, Optics Express, Vol. 20, Iss. 5(2012), 5061–5068

[2] Rui Xu, Xiaodong Wang*, Wen Liu, Liang Song, Xiaona Xu, An Ji, Fuhua Yang, and Jinmin Li, Optimization of  the dielectric layer thickness for  surface plasmon  induced  light absorption for silicon solar cells, Jpn. J. Appl. Phys. Vol. 51 No. 4 (2012) 042301-1-042301-5

[3] W. Liu, X.D. Wang*, Y.Q. Li, Z.X. Geng, F.H. Yang, J.M. Li, Surface plasmon enhanced GaAs thin film solar cells, Solar Energy Materials and Solar Cells, 95 (2011) 693-698

[4] Y.Q. Li, X.D. Wang*, X.N. Xu, W. Liu, F.H. Yang, Y.P. Zeng, Optically induced current oscillation in a modulation-doped field-effect transistor embedded with InAs quantum dots, Physica E 44 (2011) 686–689

[5] Y.Q. Li, X.D. Wang*, X.N. Xu, W. Liu, F.H. Yang, Y.P. Zeng, Observation of N-shaped Negative Differential Resistance in the GaAs-based  Modulation Doped Field Effect Transistor with InAs Quantum Dots, Jpn.J.Appl.Phys. 49 (2010) 104002

[6] Jiayong Zhang, Xiaofeng Wang, Xiaodong Wang, Fuhua Yang, Fully lithography independent fabrication of nanogap electrodes for lateral phase-change random access memory application，Applied Physics Letters Vol. 96 (2010), 213505-1-213505-3,

[7] J.Y. Zhang, X.F. Wang, X.D. Wang, Z.C. Fan, A. Ji, F.H. Yang, Selective and lithography-independent fabrication of 20 nm nano-gap electrodes and nano-channels for nanoelectrofluidics applications, Nanotechnology, Vol. 21, No. 7 (2010), 075303(1-5)