王德松
时间:2018-11-13
实验师 | ||
办公室 | 3号楼 310 室 | |
电话 | (010)82304478/5147 | |
传真 | (010)8230 5141 | |
电子邮件 | dswang@semi.ac.cn | |
负责工艺 | 光刻,等 |
个人简历
1998年8月至2005年12月 中科院半导体所国家工程研究技术中心 从事光学器件的前工艺制备工作,包括芯片清洗、电极制备、减薄磨抛、光学膜制备等。
2006年至今,中科院半导体所国家集成研究技术中心 从事电子束蒸发和光刻工艺工作
研究领域
微米和亚微米光学光刻工艺和电子束电极制备工艺
技术亮点
光学光刻,1微米条宽的波导线条。