毛 旭
时间:2024-01-22
副研究员、硕士生导师 | ||
办公室 | 3号楼306 室 | |
电话 | (010)82304354 | |
传真 | (010)8230 5141 | |
电子邮件 | maoxu@semi.ac.cn | |
通讯地址 | 北京市海淀区清华东路甲35号 |
个人简历
2009.3-至今 中国科学院半导体研究所 副研究员
2006.7-2009.3 北京大学信息科学技术学院 博士后
2002.9-2006.7 中国电子科技集团电子科学研究院 博士
1999.7-2002.9 云南大学材料科学与工程系 讲师
1996.9-1999.7 云南大学物理系 硕士
1992.9-1996.7 云南大学物理系 学士
研究领域
半导体材料
MEMS 谐振器件
MEMS 封装
成果出版
Xu Mao, Jinling Yang, An Ji, and Fuhua Yang, Two new methods to improve the lithography precision for SU-8 photoresist on glass substrate, J. Microelectromech. Syst.,2012, (Accept) (SCI).
Xu Mao, Jinling Yang, An Ji, and Fuhua Yang, Two new methods to improve the lithography precision for SU-8 photoresist on glass substrate, MEMS 2012, Paris, FRANCE, 29 January - 2 February 2012, 337-340 (EI).
Xu Mao, Yumin Wei, Zhenchuan Yang*, Guizhen Yan, Fabrication of SOI MEMS Inertial Sensorswith Dry Releasing Process, IEEE SENSORS 2009 Conference, 479-482.
中国专利
毛旭,杨晋玲,杨富华,基于金锡合金键合的圆片级低温封装方法,申请号:201010601975.1。
毛旭,杨晋玲,杨富华,一种提高光刻胶曝光精度的方法,申请号:201110344422.7。
毛旭,方志强,杨晋玲,基于局域加热技术的圆片级低温键合系统及装置,申请号:201110343625.4。
朱银芳,魏伟伟,毛旭,杨晋玲,杨富华,一种快速射频微机械开关,中国发明专利,申请号:201210105187.2。
荣誉奖励
Si基薄膜理论和实验研究;获云南省科学技术三等奖
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