二次离子质谱最新进展与应用讲座召开
时间:2018-04-22 2018年3月29日,应中科院半导体研究所集成技术工程研究中心邀请,Dr. Sven Kayser 在3号楼320会议室做了精彩的报告,报告的题目是“飞行时间二次离子质谱的最新进展与应用”。
飞行时间二次离子质谱(TOF- SIMS)是一种非常灵敏的表面检测技术。它可以获得关于表面、薄膜以及样品界面的元素和分子的详细信息,并且给出完整的三维分析。这种技术的应用范围十分广泛,包括半导体、高分子材料、油漆、镀层、玻璃、纸、金属、陶瓷、生物材料、药物以及有机组织等。
报告中,Dr. Sven Kayser介绍了TOF- SIMS的原理及在各领域中的应用概况,并详细介绍了TOF- SIMS的最新进展,重点介绍了该技术在半导体材料分析中的最新应用结果,剖析了在半导体领域的应用前景。
集成中心和所内相关课题组三十余人参加了此次技术交流,针对各自课题中的科研难题同Dr. Sven Kayser进行了深入交流,取得了良好的效果。
主讲人介绍:
Dr. Sven Kayser was born in Münster, Germany on 20th May 1969 and received the Diploma degree in Physics (within the department of surface science) from the University of Muenster in 1996. Since 1995 he was a member of the research group of Prof. Benninghoven. His work focused on the post ionisation of sputter molecules using 193 nm pico-second laser pulses. In 1996 he joined the IONTOF company. Here he was initially responsible for the world-wide after sales service. At the beginning of 2004 he became the Sales and Marketing Manager of IONTOF.