各位老师及研究生，大家好！

为促进工艺技术交流，更好地为科研提供支撑服务，集成中心将于10月19日上午在学术会议中心举办新设备与新工艺报告会，会议信息如下：

会议时间：10月19日上午8:30-11:30

会议地点：学术会议中心

会议日程：

08:30-08:40 领导致辞

08:40-09:10 光刻版制备技术与纳米压印技术(黄亚军、赵永梅)

09:10-09:40 聚焦离子束技术与电子束曝光技术(颜伟)

09:40-10:10 金属刻蚀技术与硅深刻蚀技术(刘雯、刘庆)

10:10-10:40 激光微纳加工技术与晶片研磨抛光技术(韩国威)

10:40-11:10 磁控溅射技术(司朝伟)

欢迎大家积极参加！